Mikrofabrikasi Jalur PCB Menggunakan Metode Visible Ligth Maskless Photolitography

Abstract

Pada tulisan ini akan dibahas metode modifikasi dari Photolitography yaitu Visible Ligth Maskless Photolitography, perbedaannya menggunakan sinar tampak (visible light) dan tanpa mask (cetakan) selanjutnya diaplikasikan pada fabrikasi jalur listrik PCB (printed circuit board). [DI1]Kelebihan metode adalah mudah, murah tetapi mampu membuat profil rumit dan aman. Cara kerjanya model/ profil dibuat di komputer/ laptop kemudian dipancarkan melalui DLP projector. Pada bagian bawah projector dipasang PCB yang sudah dilapisi Negative Photoresist sehingga terjadi proses exposure. Selanjutnya dilakukan proses developing dan eching sehingga terbentuk profil sesuai desain. Pada jenis projector Infocus IN114A ditemukan parameter terbaik: posisi lensa pemfokus pembesaran 3X berjarak 3 cm dibawah DLP projektor dan 14 cm diatas material uji PCB, menggunakan kombinasi warna hitam (R:0 G:0 B:0) dan biru terang (R=0, G=176, B=240) dengan waktu prebake 2 menit, spin 2.000 rpm, exposure 3 menit, developing 5 menit, Postbake 5 menit dan Eching 5 menit. Profil jalur listrik yang berhasil dibuat diantaranya: garis, huruf, alur listrik, dan bentuk microcontroller. Hasil pengukuran Scanning Electron Microscope (SEM) profil garis terkecil yang dapat dibuat yaitu m132 m dan memiliki kekasaran tepi (deviasi) 6,6 m.